Технологический маршрут изготовления простейшего
МДП\SYMBOL 150 \f "Times New Roman Cyr"вентиля с самосовмещенным затвором.

1.  Выращивание тонкого подзатворного диэлектрика.

2.  Создание p⁺-охраны.

3.  Локальное окисление.

4.  Формирование поликремниевого затвора.

5.  Ионное n⁺-легирование через тонкий диэлектрик.

6.  Нанесение ФСС и вскрытие контактных окон.

7.  Металлизация алюминием.

8.  Пассивация.